전체 글167 반도체 클린룸과 미세오염 제어 기술 1. 서론반도체 제조 공정은 나노미터(nm) 단위의 미세 패턴을 구현하는 첨단 기술의 집약체입니다. 이처럼 극도로 정밀한 공정에서는 아주 작은 먼지, 분자, 금속 이온 등 미세오염도 치명적인 결함과 수율 저하를 일으킬 수 있습니다.클린룸(Cleanroom)은 반도체 생산 현장에서 미세오염을 엄격하게 통제하기 위해 설계된 특수 공간으로, 공기 중의 입자와 분자 오염원을 최소화하여 고품질 반도체 제품 생산의 필수 인프라로 자리 잡았습니다.본 글에서는 반도체 클린룸의 기본 개념부터 미세오염 제어 기술, 최신 스마트 클린룸 동향까지 체계적으로 살펴보고자 합니다.2. 클린룸의 기본 개념과 등급2.1 클린룸의 정의클린룸(Cleanroom)은 공기 중의 부유 입자(파티클)와 분자 오염물질(AMC, Airborne M.. 2025. 6. 16. 이전 1 ··· 41 42 43 44 45 46 47 ··· 167 다음
