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포토리소그래피(Photolithography)의 원리와 초미세 패터닝 기술 1. 서론반도체 소자의 집적도와 성능이 급격하게 향상되면서, 초미세 패터닝 기술의 중요성이 그 어느 때보다 커지고 있습니다. 그 중심에는 바로 포토리소그래피(Photolithography)가 있습니다. 포토리소그래피는 실리콘 웨이퍼 위에 미세한 회로 패턴을 형성하는 핵심 공정으로, 반도체 제조에서 가장 복잡하고 정밀한 단계 중 하나입니다. 공정이 마치 사진 찍는 것과 비슷한 원리라서 포토(PHOTO)라고도 불립니다.최근에는 회로 선폭이 10나노미터 이하로 진입하면서, 기존 광학적 한계를 극복하기 위한 극자외선(EUV) 리소그래피와 다양한 멀티 패터닝 기술, 신소재 포토레지스트 개발 등 혁신이 빠르게 이루어지고 있습니다.본 글에서는 포토리소그래피의 기본 원리부터 첨단 초미세 패터닝 기술, 그리고 미래 기술.. 2025. 6. 15.

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